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01.JMP：半导体外延工艺的良率提升
在半导体产业中，良率分析一直是个热门话题。几十亿的资金投资在晶圆制造的设备上，迅速的投资收益对半导体厂商来说是非常关键的。加速良率学习并提高良率是一项重要的竞争优势。若想要维持一定的生产力，至少不...查看完整版>>JMP：半导体外延工艺的良率提升02.半导体外延工艺的良率提升
在半导体产业中，良率分析一直是个热门话题。几十亿的资金投资在晶圆制造的设备上，迅速的投资收益对半导体厂商来说是非常关键的。加速良率学习并提高良率是一项重要的竞争优势。若想要维持一定的生产力，至少不能增...查看完整版>>半导体外延工艺的良率提升03.日本瑞萨半导体将提升在中国芯片产能
瑞萨半导体管理（中国）有限公司董事长平泽大日前表示，瑞萨看好中国未来的发展，目前正在扩建位于北京的工厂，到2009年，其在北京工厂的半导体芯片生产能力将从目前的每月5000万枚扩大到6500万枚。加上位于...查看完整版>>日本瑞萨半导体将提升在中国芯片产能04.瑞萨科技将提升在中国的半导体芯片生产能力
新华网北京７月１５日电（记者徐博）瑞萨科技中国区总裁山村雅宏日前表示，瑞萨科技将在２００８年前把其在中国工厂的半导体芯片生产能力从目前的每年５千万枚扩大到９千万枚。２００８年后，中国将成为瑞萨科技最...查看完整版>>瑞萨科技将提升在中国的半导体芯片生产能力05.IBM宣布22nm半导体光刻制造工艺
IBM日前宣布了能够支持22nm制程的全套半导体光刻制造工艺解决方案，能够在继续使用当前光刻技术的前提下，满足今起直至2011年前后半导体工业对制程进化的工艺需求。IBM的新技术成为“运算微缩”（Computatio...查看完整版>>IBM宣布22nm半导体光刻制造工艺06.宏力半导体采用ARM物理IP扩展其0.18/0.13微米工艺
上海宏力半导体(Grace Semiconductor)和ARM公司目前共同宣布授权协议，ARM公司将开发一套Artisan物理IP支持宏力公司0.18微米和0.13微米的工艺技术。该协议将使宏力公司接触到全球几千家采用ARM物理IP的用户，从而扩展...查看完整版>>宏力半导体采用ARM物理IP扩展其0.18/0.13微米工艺07.坚持工艺创新大力提升国防科技工业制造能力
必须以世界眼光和战略思维高度重视工艺创新工作 坚持工艺创新大力提升国防科技工业制造能力 国防科工委科技与质量司司长 吴伟仁 国防科技工业是国家战略性产业，也是国家制造业的重要组成部分。工艺技术...查看完整版>>坚持工艺创新大力提升国防科技工业制造能力08.CMOS工艺程的温度传感器大幅提升精准度
一家模拟与混合信号器件供供商Andigilog已开发出一种采用CMOS工艺的模拟温度传感器，该公司声称，这颗编号为aSC7511的器件采用了其独特的温度感测技术，能监控近端及远程的系统温度并进行热管理，从而为基于英特尔奔...查看完整版>>CMOS工艺程的温度传感器大幅提升精准度09.JMP出席化学药品工艺的研究、优化与过程控制培训会
2008年12月6日至8日，由国家食品药品监督管理局组织的化学药品工艺的研究、优化与过程控制培训会在上海隆重举行，本次培训会致力于通过讲授化学制药工艺研发和改进的标准、思路和方法，帮助国内化学制药企业增强...查看完整版>>JMP出席化学药品工艺的研究、优化与过程控制培训会10.恩智浦半导体携手NTRU 提升微控制器安全_厂商
荷兰埃因霍芬，2008年2月27日——恩智浦半导体（NXP Semiconductors）（由飞利浦创建的独立半导体公司）与领先的嵌入式安全软件解决方案供应商NTRU，今日在德国纽伦堡举行的Embedded World Conference上共同发布...查看完整版>>恩智浦半导体携手NTRU 提升微控制器安全_厂商

 

 

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