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光学干涉薄膜(Optical Interference Coatings)

王朝导购·作者佚名
 
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  分类: 图书,科学与自然,物理学,光学,
  品牌: (德)凯泽

基本信息·出版社:浙江大学出版社

·页码:336 页

·出版日期:2008年

·ISBN:730806154X/9787308061544

·条形码:9787308061544

·包装版本:第1版

·装帧:平装

·开本:16

·正文语种:中文

·外文书名:Optical Interference Coatings

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内容简介《光学干涉薄膜》以自然界内的光学薄膜作为启始章。在这章的引言中,彼得·瓦卡斯克(Peter Vukusic)写到:“人们认识到自然广泛利用光与周期性结构相互作用这种基本形式已有一段时间了。”事实上曼恩·托马斯(Mann Thomas)(注:曼恩·托马斯(1875-1955),德国作家。他的作品充分显示了他对艺术家在社会角色中的兴趣,及他对德国知识界和精神领域健康发展的关心,作品包括《威尼斯之事》(1912)和《魔术山》(1924)。

目录

自然界的薄膜

具有光子结构的干涉器件

光学薄膜生长的基本原理

光学薄膜设计

镀膜材料

薄膜沉积方法

大面积沉积技术

特性检测和监控

光学镀膜中的机械应力

微器件中的光学薄膜

深紫外和真空紫外光学薄膜

极紫外与软X射线多层膜反射镜

抗激光薄膜

紫外自由电子激光器中的光学薄膜

塑料基板光学镀膜

应用于超快光学的干涉薄膜

显示中的光学薄膜

用于自发辐射控制的光学薄膜

后 记

……[看更多目录]

序言本书覆盖了现代光学技术中最基本的干涉光学薄膜当前所有的研究领域,是为具有工程和大学水平的新光学从业者和专家撰写的,也是为科学与工程学科的大学高年级学生撰写的,目的是全面提供光学薄膜领域的完整认识,反映光学薄膜动态和快速变化的特点。本书共有18章,涉及干涉薄膜广泛主题,每辛都由专家撰写和评论,提供权威信息。这些专题包括(而不只限于)自然薄膜、光子晶体结构、光学薄膜设计、镀膜材料、薄膜生长、大小尺寸基板上光学薄膜制备、光学薄膜表征、光学薄膜应力、光学薄膜微小元件、DUV/VUV/EUV薄膜、超快光学、显示系统用光学薄膜、超敏感荧光应用、抗激光损伤薄膜、自由电子激光用薄膜以及塑料镀膜等。本书以一种逻辑顺序介绍了光学薄膜领域基础理论和最新研究成果,每章末还给出大量参考文献。

自然地,他获1929年诺贝尔文学奖)在他1947年首次出版的最后伟大的小说《浮士德博士》中就已经面对着这样的自然界现象,并用真正的艺术方式加以描述:有许多次事情是这样发生的,当艾德里安父亲打开那本有珍奇蛾类和海洋动物插图的书的时候,我们一包括他的儿子们,我,有时还有夫人(Frau Leverknhn)--都从他的羽毛翅膀状的椅子后面紧盯着看,他用他的食指指着北美的图画,画面是这样的:热带的凤蝶和大闪蝶飞来飞去,忽明忽暗,五颜六色,其精关的图案恐怕是工匠也望尘莫及制作的。昆虫炫耀着它们夸张的美丽,以此来弥补生命的短暂,虽然有些当地人认为它们是邪恶的灵魂,广泛散布着疟疾。它们最夸耀的美丽颜色是梦境般的天蓝色。

文摘插图:

光学干涉薄膜(Optical Interference Coatings)

后记光学薄膜是一种使系统性能得以实现的技术。光学薄膜设计目标的实现最终可确定整个光学系统的性能,光学薄膜可以在几乎任何可以想象的方式下产生光的反射、吸收和透过。但是,只有充分理解光学薄膜设计、材料特性和制备过程控制的限制,才能使负责光学薄膜设计的人成功地完成可达到的系统性能指标。

这本书为光学薄膜和光学系统的设计工作者提供了有力的工具,且也指出我们现有光学薄膜技术的限制,以及如何建立切实可行的性能指标和订制需要扩展现有工艺水平的新投产计划。这里呈现给大家的是光学薄膜这一关键和具有挑战技术的全面总结。

我们还论述了在各种微光电技术中光学薄膜技术的应用。

尽管上个十年光学薄膜技术有很大的改进与发展,但对光学薄膜特性的要求却一直在提高。为了收集、传输和改变从X射线到微波波段的光辐射,人们已成功地开发了各种各样的被动式光学薄膜。另外,为了满足实际的反射、透射和吸收谱段的需要,人们也增加了更多波段和互补特性的要求--如对光谱特性的要求会同时出现在某些紧密相连谱线的波段区域以及另外一个很宽的光谱区内。一般情况下,设计这些光学薄膜比制作要简单得多。

光学薄膜逐步向多功能发展,除了达到特定的光学特性,可能还需要具有抗环境损伤的特性或特殊的电学特性。有些应用还需要光学薄膜有密集的空间图形。最后,尽管要满足苛刻的光学特性,光学薄膜的制作者还受到极大地降低制作成本的压力。

光学薄膜的表征技术也继续不断地为设计者和工艺工程师反馈关键参数。拥有这些实际的信息后,才有可能制作出接近设计性能的光学薄膜。

光学薄膜的研究者正好处于推进和利用纳米技术这一正在出现的新领域。这个具有广阔前景的领域要求在三维方向上实现原子级精度的控制,表征能力的提高和工艺控制过程的改善使得在纳米尺度上设计和制作这些令人惊奇的三维结构成为可能。

为了设计新的光学功能,图案生成技术现在可以提供必要的空间结构控制。材料化学领域内的持续研究允许人们使用可控的化学反应以产生自组装分子结构,从而得到精确的带有图形的光学薄膜。

不断改善的光学薄膜特性、新型设计和新的镀膜材料,正不断扩展光学薄膜的应用范围。一些新的正在出现的工艺技术(如原子层沉积)也许能够控制一层原子一层原子结构的薄膜生长过程。

许多令人兴奋的光学薄膜新应用即将出现。在全世界实验室范围内将会出现下列光学薄膜:更高性能的光学薄膜、满足苛刻条件的多光谱性能薄膜、具有增强使用性能的光学薄膜、具有精细结构的光学薄膜、应用于微光学系统的光学薄膜、在MEMS结构上的光学薄膜、具有生物功能的薄膜和集成在光电子集成器件内的光学薄膜等。

 
 
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