超大规模集成电路技术基础
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作者： 李兴
出 版 社： 电子工业出版社
出版时间： 1999-5-1字数：版次： 1页数： 255印刷时间：开本：印次：纸张：I S B N ： 9787505351950包装： 平装编辑推荐
本书系统地介绍了超大规模集成电路工艺理论和工艺方法。全书共九章，包括光刻、掺杂、氧化及热处理品、薄膜工艺基础与物理气相沉积、化学气相沉积、刻蚀、平坦化与多重内连线工艺及超大规模集成电路工艺汇总等。
目录
绪论
第一章 硅的晶体结构
第二章 光刻
第三章 掺杂
第四章 氧化及热处理
第五章 薄膜工艺基础与物理气相沉积
第六章 化学汽相沉积（VCD）
第七章 刻蚀
第八章 平坦化及多重内连线工艺
第九章 超大规模集成电路工艺汇总
