DVD9铝层的溅镀工艺探讨续
DVD9铝层的溅镀工艺探讨续
硅、氮化硅、碳化硅等电介质与纯金属的铝、金等材料在反射性能方面有点不同，由于它们的折射率与基片（聚碳酸酯）的折射率不同而产生所需的反射率，反射率的大小与读取激光束的波长有关。这些电介质的另一个优点是它们吸收的光比金属少，这使它们在这个领域里有很有用的优点。铝的吸收值k如果为5.5，那么硅只有0.35（与其化学计量有关）。虽然这些电介质有这种优点，并且使用时能很容易达到DVD规格的要求，但在使用SiN和SiC时，实际的溅镀工艺需要非常复杂的设备和丰富的工艺知识，这是因为需要使用活性气体来生成这些反射层。就如SiN，在实际的溅镀过程中，硅靶只有在充满氮气的情况下，原子才能合成产生SiN。这使得象金这样的金属有机会应用于生产中，因为溅镀金或铝等良导体类材料是相对容易的，当然这也关系到溅镀系统的制造成本。
最近在使用纯硅方面取得了进展，降低了在溅镀室内引入活性气体的复杂性（图6）。
有趣的是所谓的“纯”硅层无论是真的由纯硅组成，还是由实际上硅已与存在于溅镀室本底压力内部分氮、氧、氢等发生反应后产生的纯硅、SiN和各种其它氧化物的混合物，如果不同盘片进料室真空度稍有不同，溅镀室的剩余压力随之变化，这意味着剩余气体的量将会随机改变，因此很难推断出半反射层的最终成分及其反射率。
迄今为止，结果显示可以用纯硅做DVD9的靶材，许多客户也有兴趣使用。
虽然硅引起了人们的广泛兴趣，事实上每个刚开始着手做DVD9的人最初都使用金靶，但一旦人们熟悉了DVD9的生产工艺，那么他们将会改用硅靶，就如设备一样，实际的靶材切换并不困难。如果你在使用金靶，那改用硅靶只是时间问题，也许在将来能见到用铝作为半反射层的生产工艺--当然这有助于降低靶材的成本。
源自:《光盘制造专家》
