光盘金属膜溅镀工艺及问题解析二

光盘金属膜溅镀工艺及问题解析二

对金属镀膜性质的掌控也是镀膜工艺师的基础，不同材料在各波长段的性质也有差异。如表一所示。银是在可见光和近红外光中最佳的反射膜材料，银膜在波长 800nm时的反射率可以达到99.2％。铝在近紫外光、可见光、近红外光都有良好的反射率，是光学反射膜最常使用的材料，但是铝膜材质较软而且容易氧化，其表面上必需有保护膜，金与铜在波长650～800nm的反射率表现不错，问是当波长小于500nm时，金、铜的反射率却远低于铝和银。

表一．几种金属反射膜在不同波长的反射率

盘片常见溅镀缺陷主要有以下几种：

1．溅镀层太薄

产生的原因是：

l）选错溅镀机上的靶材设定

2）有真空泄漏

3）系统泄漏（空气或水）

4）氩气流量不合适，过高或过低

5）磁铁系统损坏

2．溅镀层偏心

产生的原因是：

l）SA手掌上盘片固定珠没对中

2）Inner mask变形

3）Inner mask冷却水管变形

3．溅镀层边沿发黑

产生的原因是：

l）Mask边沿变滑

2）盘片跟mask接触不好

3）磁铁系统损坏

4．溅镀层边沿不齐整

产生的原因是：

l）Mask边沿不齐整

2）电弧太多，清洗或更换mask

5．溅镀层厚度不均匀

产生的原因是：

l）真空泄漏

2）系统泄漏（空气或水）

3）氩气流量过高或过低

4）磁铁系统损坏

5）磁铁系统安装错误

基于不同的溅镀源型号，工艺参数亦有所不同。根据不同硬件/环境条件，如真空泄漏，氩气纯度过低，冷却水品质不理想，等等，相应工艺参数须作调整。另外，因不同工艺，如所需镀层厚薄不同，溅镀材料的不同，工艺参数亦须作相应调整。

由于真空镀膜技术的进步，使得各种特殊的光学镀膜可以被开发出来。又随着科技的发展，人类对于材料的需求，也愈来愈严格，金属材料对于光学的贡献，也将随着材料科学的发展，而起到更加重要的作用，从而推动光存储技术进步。

（作者：胡平舟）

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