超大规模集成电路-基础·设计·制造工艺

王朝导购·作者佚名

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　　分类: 图书,电子与通信,微电子学、集成电路（IC）,
　　品牌: 岩田

基本信息·出版社：科学出版社

·页码：309 页

·出版日期：2008年

·ISBN：9787030202789

·条形码：9787030202789

·包装版本：第1版

·装帧：平装

·开本：16开

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内容简介本书共分为上下两篇，上篇为基础设计篇，主要介绍VLSI的特征及作用、VLSI的设计、逻辑电路、逻辑VLSI、半导体存储器、模拟VLSI、VLSI的设计法与构成法、VLSI的实验等；下篇为制造工艺篇，主要介绍集成工艺、平板印刷、刻蚀、氧化、不纯物导入、绝缘膜堆积、电极与配线等。

本书内容丰富，条理清晰，实用性强，既可供超大规模集成电路研发和设计人员及半导体生产单位管理人员使用，也可作为各院校集成电路相关专业的本科生、研究生及教师的参考书。

编辑推荐本书共分为上下两篇，上篇为基础设计篇，主要介绍VLSI的特征及作用、VLSI的设计、逻辑电路、逻辑VLSI、半导体存储器、模拟VLSI、VLSI的设计法与构成法、VLSI的实验等；下篇为制造工艺篇，主要介绍集成工艺、平板印刷、刻蚀、氧化、不纯物导入、绝缘膜堆积、电极与配线等。

上篇基础与设计

第1章VLSI的特征及任务

1．1 VLSI的概念与基本技术

1．1．1VLSI的基本技术与发明

1．1．2学科体系

1．2 VLSI的种类

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