王朝网络

分享

 

01.NEC等开发出纳米级零件制造技术
NEC、精工仪器（SII）以及姬路工业大学的松井真二教授于2000年12月7日联合宣布，开发出了厚度小于0.1微米（μm＝1/1000mm）的微小零件制造技术。NEC还展示了由石墨结构碳素和钻石结构碳素形成的厚度为0.1μm、外径为...查看完整版>>NEC等开发出纳米级零件制造技术02.美海军开发高效焊接技术用于下一代水面舰的制造
点击此处查看全部军事图片 [据www.ewi.org 2005年12月报道]最近，美国海军连接中心(NJC)正在与其他海军MANTECH卓越中心合作开发多个项目，为美国海军的下一代多功能驱逐舰-DD(X)提供技术支持。由于D...查看完整版>>美海军开发高效焊接技术用于下一代水面舰的制造03.美海军开发高效焊接技术用于下一代水面舰的制造
点击此处查看全部军事图片 [据www.ewi.org 2005年12月报道]最近，美国海军连接中心(NJC)正在与其他海军MANTECH卓越中心合作开发多个项目，为美国海军的下一代多功能驱逐舰-DD(X)提供技术支持。由于D...查看完整版>>美海军开发高效焊接技术用于下一代水面舰的制造04.日本企业开发低成本纳米碳管制造技术
日本东丽公司和三菱化学公司开发成功新的纳米碳管制造技术，它可将这种材料的生产成本降低至目前的几百分之一。 据《日本经济新闻》日前报道，新制造技术是这两家公司分别与名古屋大学和群马大学的科学家合作开发...查看完整版>>日本企业开发低成本纳米碳管制造技术05.NEC开发出低像素视频图像全高清呈现技术
6月16日消息，腾讯科技今日获悉，NEC电子已于日前完成了新产品“uPD9280GM”的开发，该新产品可将低解像度的视频图像及静止图像显示在高解像度（1920×1080像素，以下简称全高清）电视面板时的粗糙边缘平缓化，从...查看完整版>>NEC开发出低像素视频图像全高清呈现技术06.NEC电子开发55nm CMOS工艺技术
NEC电子和NEC日前开发出了55nm CMOS工艺技术。在MOS FET栅绝缘膜中导入了high-k(高介电常数)材料，实现高载流子迁移率，从而同时实现了便携终端等领域所要求的低耗电和高速运行。双方首次采用了液浸ArF曝光技术。 ...查看完整版>>NEC电子开发55nm CMOS工艺技术07.日本开发出纳米钻石发射体
日本住友电气公司和大阪大学等单位联合开发出尖端直径仅为10纳米的钻石纳米发射体。据认为，这一技术在信息通信等领域具有广阔的应用前景。 据《日刊工业新闻》报道，这种纳米级的单晶钻石发射体是应用晶体生长技...查看完整版>>日本开发出纳米钻石发射体08.日本电器公司NEC开发出手机翻译软件
新华网东京１１月５日电（记者何德功）日本电器公司（ＮＥＣ）开发出一种手机翻译软件，能够进行英日文互译，并用合成声音说出来，为旅游者提供了便利。据《日经产业新闻》报道，这种翻译软件过去多用于电脑，由...查看完整版>>日本电器公司NEC开发出手机翻译软件09.东芝携NEC电子，联合研发新半导体处理技术
据外国媒体的最新报道，日本东芝公司和NEC电子公司近日宣布说，双方已经签署协定，同意联合研发45纳米CMOS逻辑处理技术。 单独研发半导体处理技术不仅耗时巨大，而且费用昂贵，而联合研发不但可以提升系统大规...查看完整版>>东芝携NEC电子，联合研发新半导体处理技术10.NEC最新手机面部识别技术亮相日本通信展
在7月13日到15日举行的2005日本无线通信展览会(Wireless Japan 2005)中，展示了其最新的手机面部识别技术。借助该技术，可以方便的通过人的面部特征得到其身份，这项技术在金融，商业等领域有着相当广阔的前景。整套...查看完整版>>NEC最新手机面部识别技术亮相日本通信展

 

 

免责声明：本文为网络用户发布，其观点仅代表作者个人观点，与本站无关，本站仅提供信息存储服务。文中陈述内容未经本站证实，其真实性、完整性、及时性本站不作任何保证或承诺，请读者仅作参考，并请自行核实相关内容。