台湾媒体报道，根据台湾当局一份评估报告，大陆中芯在0.18微米产能利用率已经超越台积电。台湾当局已经建议开放0.18微米半导体制程赴大陆投资。这是台湾当局报告中，首度警告台湾0.18微米半导体制程技术
【eNet硅谷动力消息】3月20日，中国台湾当地主管部门已经批准了台积电的申请，允许其在中国大陆采用0.18微米技术生产芯片。有报道称，中国政府也已批准英特尔在大连投资25亿建造芯片工厂的计划。
台积电可能借接手其他工厂的生产设备扩充上海松江8英寸厂产能，从而快速提升大陆市场影响力。 昨日业内有消息称，在获得台湾地区0.18 微米技术登陆许可后，台积电上海松江厂计划2007年将年产能
4月3日消息，据路透社报道，台积电今日表示，虽然尚未公布今年的资本支出计划，但仍将持续进行设备采购，并以提升45、40纳米的先进制程产能为主。 台积电本周连续公告自AMAT等厂商购入设
日前一个半导体行业组织发布报告称，今年七月至九月份期间，全球微芯片工厂的产能利用率连续二个季度出现了增长。 芯片装备制造商更高的产能利用率是一个利好的消息。日前英特尔公司和美光科技公
上海宏力半导体(Grace Semiconductor)和ARM公司目前共同宣布授权协议，ARM公司将开发一套Artisan物理IP支持宏力公司0.18微米和0.13微米的工艺技术。该协议将使宏力公司
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